Optical and structural characterisation of epitaxial nanoporous GaN grown by CVD
نویسندگان
چکیده
منابع مشابه
Structural and optical investigation of non-polar (1-100) GaN grown by the ammonothermal method
متن کامل
Structural and optical properties of GaN films grown on GaAs substrates by molecular beam epitaxy
GaN films are grown on [0 0 1] GaAs substrates by plasma-assisted molecular beam epitaxy using a three-step process that consists of a substrate nitridation, deposition of a low-temperature buffer layer, and a high-temperature overgrowth. X-ray diffraction and transmission electron microscopy indicate that this method promotes prismatic growth of c-oriented a-GaN. Photoluminescence studies show...
متن کاملStructural and optical characterization of GaN grown on porous silicon substrate by MOVPE
GaN was grown on porous silicon (PS) substrates by Metalorganic Vapour Phase Epitaxy at temperature of 1050 8C. An additional AlN buffer layer is used between GaN and PS. The crystalline quality and surface morphology of GaN films were studied by X-ray diffraction and scanning electron microscope (SEM), respectively. Preferential growth of hexagonal GaN with h00.1i direction is observed and is ...
متن کاملcontrol of the optical properties of nanoparticles by laser fields
در این پایان نامه، درهمتنیدگی بین یک سیستم نقطه کوانتومی دوگانه(مولکول نقطه کوانتومی) و میدان مورد مطالعه قرار گرفته است. از آنتروپی ون نیومن به عنوان ابزاری برای بررسی درهمتنیدگی بین اتم و میدان استفاده شده و تاثیر پارامترهای مختلف، نظیر تونل زنی(که توسط تغییر ولتاژ ایجاد می شود)، شدت میدان و نسبت دو گسیل خودبخودی بر رفتار درجه درهمتنیدگی سیستم بررسی شده اشت.با تغییر هر یک از این پارامترها، در...
15 صفحه اولذخیره در منابع من
با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید
ژورنال
عنوان ژورنال: Nanotechnology
سال: 2017
ISSN: 0957-4484,1361-6528
DOI: 10.1088/1361-6528/aa7e9d